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光刻胶手艺壁垒高环球半导体行业中涉及光阻质

  发表于 2018-12-16 11:06:47 东方财富Android版

  光刻胶技术壁垒高,全球半导体行业中涉及光阻材料的核心技术主要被日本和美国企业所垄

  光刻胶技术壁垒高,全球半导体行业中涉及光阻材料的核心技术主要被日本和美国企业所垄断,合占市场份额达到95%。括日本的JSR、日本的信越化学工业、美国的SEMATECH、美国的IBM、韩国的东进化学、日本的TOK、日本的住友化学等。

  国内光刻胶由中低端向高端逐步过度,国内厂商已基本可以掌握g线nm)和i线nm)光刻胶技术,而KrF(248nm)和ArF(193nm)光刻胶核心技术主要被上述日本和美国企业所垄断,KrF目前仅小批量在中芯国际通过验证,ArF尚在起步研发中。

  与合作方共同投资设立子公司开展 193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目。计划总投资 2亿元人民币,上海新阳出资 8000 万元人民币,占目标公司股权的 80%;邓海博士技术团队出资 2000万元人民币,占目标公司股权的 20%。

  通过上面各自在光刻胶领域简单的描述,相信大家也有了初步的判断,谁正宗,谁暂时蹭蹭概念,谁在研发技术含量较高的

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  知道上海新阳开发的ArF(193nm)光刻胶技术含量有多牛逼了吧,而且了解邓海博士的背景就知道上海新阳能开发成功的概率相当大,迟早的事情,ArF(193nm)开发成功出来绝对是轰动中国半导体业界具有划时代战略意义的成就。

  虽然我们讨厌熊市,不希望股票跌跌不休,谁也不乐意自己被套,但是逆向思维思考,如果不是现在大盘这么低迷我们可以用如此低价格买到新阳的股票吗?如果现在是牛市,像新阳这样充满想象力未来发展色气潜力无限的股票很容易松松过百的,所以从这种意义来讲,我们要感谢现在大盘如此烂我们才有机会低价持有新阳,人弃我取,人取我与,到了大家纷纷看好争先恐后抢夺新阳筹码之时也就是我们悄悄退出之时

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